体系中随着表面活性剂浓度的增大，缔和分子不断增多，胶束聚集数不断增加，则药液的光散射强度不断增强。达到CMC时，光散射强度急剧增加，CMC即可由散射光强对浓度作图曲线的突变点求出（溶液的散射光强源于溶质和溶剂的加和，溶液的散射光强扣除溶剂散射光强后即为溶质的散射光强。溶质的散射光强在溶质未变性之前与浓度是呈正比的，散射光强对浓度作图应该呈线性。）。临界胶束浓度（CMC）作为表面活性剂的表面活性的一个量度，是一个重要的性质参数。

光线通过表面活性剂溶液时，如果溶液中有胶束粒子存在，则一部分光线将被胶束粒子所散射，因此，测量散射光强度即浊度，可反映溶液中表面活性剂胶束的形成。以待测体系浓度C对光散射强度I作图。当表面活性剂在溶液中达到或超过一定浓度时，会从单体（单个离子或分子）缔合成胶态聚集物，即形成胶束，其大小符合胶粒大小的范围，故有光的散射现象。光散射法可以用于测量胶束的聚集数、胶束的大小和形状、以及临界胶束浓度等。